技术摘要：
本公开揭露一种光掩膜固持系统，包括内盒(2)及外盒(1)。所述内盒(2)配置来接收具有第一识别特征(I1)的光掩膜(R1)。所述内盒(2)包括：内基座(22)，具有大致位于其几何中心的光掩膜容置区(22a)，所述光掩膜容置区(22a)被外围区域围绕(22b)；及配置来与内基座(22)建立密封  全部
背景技术：
半导体工业中，基于光掩膜固持器的载荷精确度的要求的提高，光掩膜固持器也 随着发展以强化对潜在的环境危害的保护。 例如，新一代的光掩膜固持器有时具有双盒结构，其包括用于容纳光掩膜的内盒， 和用于容纳内盒的外盒。在输送过程中，光掩膜可能会收容在内盒中。为了执行光刻工艺， 可以打开外盒以允许从中取出内盒。然后，在抵达曝光设备内部的指定位置时，可以打开内 盒以使用光掩膜来进行后续曝光过程。
技术实现要素：
根据一实施例，本公开的一个方面提供了一种光掩膜固持系统，包括内盒及外盒。 所述内盒配置来接收具有第一识别特征的光掩膜，所述内盒包括：内基座，具有光掩膜容置 区，所述光掩膜容置区大致位于几何中心且被外围区域围绕，其中，所述内基座具有限定在 所述光掩膜容置区中的第一观察区，所述第一观察区相应地布置成允许观察所述第一识别 特征；及内盖，配置来与所述内基座的外围区域接合，从而限定用于容置所述光掩膜的内 部。所述外盒配置来接收所述内基座，所述外盒包括：外基座，其上限定第二观察区域，其 中，当所述外盒接收所述内盒时，所述第二观察区域可观察地与所述内盒的所述第一观察 区域对准；及外盖，配置来与所述外基座接合并覆盖所述内盒。 根据一实施例，本公开的一个方面提供了一种光掩膜固持系统，包括内盒及外盒。 所述内盒配置来接收邻近于一护膜(pellicle)并且具有第一识别特征的光掩膜。所述内盒 包括：内基座，具有光掩膜容置区，所述光掩膜容置区大致位于几何中心且被外围区域围 绕；及内盖，配置来与所述内基座的外围区域密封地接合，从而限定用于容置所述光掩膜的 内部。所述内基座包括内部光学组件，所述内部光学组件密封地嵌入在所述光掩膜容置区， 以允许观察所述第一识别特征和所述护膜的一部分。所述外盒配置来接收所述内基座，所 述外盒包括：外基座，包括外部光学组件，当所述外基座接收所述内盒时，所述外部光学组 件与所述内部光学组件可观察地对准，所述第二观察区域可观察地与所述内盒的所述第一 观察区域对准；及外盖，配置来与所述外基座接合并覆盖所述内盒。 附图说明 为可仔细理解本案以上记载之特征，参照实施态样可提供简述如上之本案的更特 定描述，一些实施态样系说明于随附图式中。然而，要注意的是，随附图式仅说明本案的典 4 CN 111602092 A 说　明　书 2/12 页 型实施态样并且因此不被视为限制本案的范围，因为本案可承认其他等效实施态样。 图1示出了根据本公开的一些实施例的光掩膜固持系统的示意性剖视图； 图2示出了根据本公开的一些实施例的光掩膜固持系统的示意性俯视图； 图3示出了根据本公开的一些实施例的光掩膜固持系统的分解图； 图4示出了根据本公开的一些实施例的光掩膜固持系统的剖视图； 图5示出了根据本公开的一些实施例的光掩膜固持系统的区域截面图；及 图6示出了根据本公开的一些实施例的光掩膜固持系统的俯视图。 然而，应当注意，附图仅示出了本公开的示例性实施例，并且因此不应被认为是对 其范围的限制，因为本公开可以允许其他等效的实施例。 应该注意的是，这些附图旨在说明在某些示例实施例中使用的方法，结构和/或材 料的一般特性，并补充下面提供的书面描述。然而，这些附图不是按比例绘制的，并且可能 不能精确地反映任何给定实施例的精确的结构或性能特征，并且不应被解释为定义或限制 示例实施例所涵盖的值或特性的范围。例如，为了清楚起见，可以减小或放大层，区域和/或 结构元件的相对厚度和位置。在各个附图中使用相似或相同的附图标记旨在指示相似或相 同的元件或特征的存在。 主要元件符号说明 5 CN 111602092 A 说　明　书 3/12 页 6 CN 111602092 A 说　明　书 4/12 页 7 CN 111602092 A 说　明　书 5/12 页