技术摘要：
本发明公开了一种触控屏制备方法，包含的步骤为：提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材，切割所述卷材，所述低阻导电薄膜层的电阻小于等于10Ω/□；对所述卷材进行激光图案化，所述激光图案化包含触控区域图案化和边框导线图案化；提供两片所述图案化后卷材，对其辊压式贴合  全部
背景技术：
电容式触控装置结构一般分为感应层和驱动层，分别在两张透明导电薄膜上完成 图案化电路，并有导线传输信号，其表面根据需要贴合有盖板。透明导电薄膜上图案化电路 形成的方法有化学蚀刻或者物理的激光蚀刻等。现有技术中电容式触控装置的制备过程包 括：1.图案化导电薄膜。如果采用ITO为透明导电薄膜的导电物质，通常采用传统的溶液化 学蚀刻，采用耐酸油墨、光刻胶等作为溶液中化学蚀刻的临时保护，在蚀刻完成后需要进行 脱除。如果采用纳米银为透明导电薄膜的导电物质，采用激光镭射出图案，清洗导电薄膜。 2.对两层导电薄膜进行切割后老化，印刷导电银浆，对导电银浆进行烘烤固化。3.激光对导 电银浆镭射出导电图案后进行清洗。4.两层导电薄膜进行贴合后再与透明盖板贴合。这一 系列过程工序众多，制程繁琐，需要花费大量的人力物力和生产时间。 综上所述，如何节约制作工序，降低触控屏的生产成本是目前本领域技术人员亟 待解决的技术问题。
技术实现要素：
为解决上述蚀刻线可见的问题，本发明提出了1.一种触控屏制备方法，包括以下 步骤： S1：提供一涂覆有低阻导电薄膜层卷材，切割所述卷材，所述低阻导电薄膜层的电 阻小于等于10Ω/□； S2：对所述卷材进行激光图案化，所述激光图案化包含触控区域图案化和边框导 线图案化。 S3：提供两片所述图案化后卷材，对其辊压式贴合形成薄膜叠层结构； S4：提供一透明盖板，通过光学液态胶和所述薄膜叠层结构贴合。 优选的，所述步骤S1的卷材包含一层离型膜，所述切割为部分半切断处理。 优选的，所述低阻导电薄膜层包含电传导层，所述电传导层包含金属和该金属的 氧化物或氮化物。 优选的，所述步骤S4的透明盖板采取多片式载于同一离型膜上。 优选的，所述步骤S3采用滚卷式进行贴合。 优选的，所述切割为部分半切断处理。 优选的，所述步骤S2的激光能量为30-50W。 优选的，所述触控区域图案化和边框导线图案化一道制程完成。 本发明的触控屏制备方法节约制作工序，有效节省人力物力和生成时间，降低触 控屏的生产成本。 本发明还提供了一种由以上所述触控屏制备方法得到的触控屏。 3 CN 111596809 A 说　明　书 2/3 页 附图说明 图1为本发明触控屏制备方法的流程图