技术摘要：
本发明涉及一种透过率渐变膜及制备方法，透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层，缓冲层设于基材上，调节层设于缓冲层上，保护层设于调节层上；其中，调节层包括颜色调节层及亮度调节层，颜色调节层设于缓冲层上，亮度调节层设于颜色调节层上，亮度调节层为金属半反  全部
背景技术：
光学薄膜通常用多种不同的介质材料交替堆叠而成，通过不同的堆叠方式，可实 现所需的光学性能或者颜色外观，可通过在电子设备的外壳上镀设颜色渐变膜，以使外壳 具有颜色渐变效果，市场上常见的颜色渐变膜有蓝紫色渐变膜、蓝绿色渐变膜、紫金色渐变 膜等。 随着3C电子设备的迅猛发展，对电子设备的外壳的外观效果要求越来越高，仅仅 是具有渐变颜色效果的外壳已难以满足市场需求。
技术实现要素：
基于此，有必要提供一种具有亮度渐变效果的透过率渐变膜及制备方法。 一种透过率渐变膜，用于镀设于基材上；所述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及 保护层，缓冲层设于所述基材上，所述调节层设于所述缓冲层上，所述保护层设于所述调节 层上；其中，所述调节层包括颜色调节层及亮度调节层，所述颜色调节层设于所述缓冲层 上，所述亮度调节层设于所述颜色调节层上，所述亮度调节层为金属半反射层，且所述亮度 调节层的厚度呈渐变状。 上述透过率渐变膜包括缓冲层、调节层及保护层，缓冲层设于基材上，使调节层与 基材之间具有较好的结合力，调节层包括颜色调节层及亮度调节层，颜色调节层决定透过 率渐变膜所呈现的颜色效果，亮度调节层为金属半反射层，亮度调节层决定透过率渐变膜 所呈现的亮度效果，保护层用于防止亮度调节层被氧化和破坏。其中，由于亮度调节层的厚 度呈渐变状，从而亮度调节层的透过率为渐变效果，即透过率渐变膜呈亮度渐变效果，有效 提高用户的使用体验感，满足市场需求。 在其中一个实施例中，所述颜色调节层包括层叠设置的高折射率层及低折射率 层，在所述缓冲层上，所述高折射率层与所述低折射率层交替设置。 在其中一个实施例中，所述高折射率层的层数与所述低折射率层的层数之和为3 层-8层。 在其中一个实施例中，所述高折射率层的层数为2层-4层，所述低折率层的层数为 1-4层。 在其中一个实施例中，所述颜色调节层的厚度为20nm-200nm。 在其中一个实施例中，所述亮度调节层的厚度为20nm-200nm。 在其中一个实施例中，所述亮度调节层的材料为Cr或Ni。 在其中一个实施例中，所述保护层为SiO2层。 一种透过率渐变膜的制备方法，包括以下步骤； 在基材上喷镀或喷涂缓冲层，形成第一半成品； 3 CN 111556679 A 说　明　书 2/6 页 在所述第一半成品上喷镀颜色调节层，形成第二半成品； 在所述第二半成品上喷镀亮度调节层，形成第三半成品； 在所述第三半成品上喷镀保护层，得到成品。 在其中一个实施例中，所述在所述第二半成品上喷镀亮度调节层，形成第三半成 品的步骤具体为： 镀膜材料的选择：选择所需镀膜金属靶材； 亮度修正板的设计：根据预定亮度渐变效果，设计亮度修正板的形状、尺寸；所述 亮度修正板呈V型排列； 光学亮度镀膜。 附图说明 图1为本发明的透过率渐变膜的结构示意图； 图2为图1透过率渐变膜中调节层的结构示意图； 图3为本发明的透过率渐变膜制备方法的流程示意图； 图4为本发明的透过率渐变膜制备方法的亮度修正板的结构示意图。 附图中各标号的含义为： 基材100，亮度修正板200，缓冲层10，调节层20，颜色调节层30，高折射率层31，低 折射率层32，亮度调节层40，保护层50。