技术摘要：
本发明公开了一种开盖装置和半导体处理设备。包括旋转机构；传动机构，包括主动旋转轴以及套设在主动旋转轴内侧并与其可转动连接的从动旋转轴，主动旋转轴与旋转机构连接，从动旋转轴用于与盖板连接；并且，主动旋转轴与从动旋转轴之间设置有至少一个密封腔，每个密封  全部
背景技术：
在半导体设备中，工艺过程需要对腔室及时密封以便隔绝热量和保持腔室的洁 净、控制污染。在要求非常苛刻的工艺过程中，例如，在运行中既要保证均匀性、洁净性，又 要保证长时间的可靠性、无故障率。通常在加热腔室下方设置旋转门来对腔室进行开闭动 作，但是由于旋转门要布置水冷系统、水平调节系统等装置，且密闭的截面积较大，旋转门 自重也比较重，因此在气缸驱动其运动的过程中，很容易出现运行不平稳的现象。 该类型设备整体布局紧凑，空间受限，内部使用温度范围较大(20～120℃)，如果 使用电机驱动易造成线缆融化，维护不便，影响可靠性。由于机台内部需要控制密封性和洁 净性，从维护的频率考虑要尽量减少装置的数量，线缆等元器件穿入穿出机台内外同样需 要尽量避免。因此普遍使用气缸驱动此类旋转门机构。 但是，在气缸驱动旋转门机构的过程中，可能存在气缸爬行的现象，由于需求的速 度较慢，气缸本身就易出现此类现象，从而导致速度不均匀。此外，机构在行程结束时需要 精确停在限位位置，由于整个旋转机构冲量较大，使得整个限位结构频繁受到撞击，很容易 损坏，一致性不易保持。
技术实现要素：
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种腔室用开盖装 置和一种半导体处理设备。 为了实现上述目的，本发明的第一方面，提供了一种腔室用开盖装置，所述开盖装 置用于驱动盖板旋转以封闭或开启腔室，所述开盖装置包括： 旋转机构； 传动机构，包括主动旋转轴以及套设在所述主动旋转轴内侧并与其可转动连接的 从动旋转轴，所述主动旋转轴与所述旋转机构连接，所述从动旋转轴用于与所述盖板连接； 并且， 所述主动旋转轴与所述从动旋转轴之间设置有至少一个密封腔，每个所述密封腔 均包括间隔且相互连通的至少两个子腔室，所述子腔室内均容纳有流体，以在所述主动旋 转轴的运动工况沿第一预定方向发生突然改变时，各所述密封腔内的子腔室之间能够形成 沿第二预定方向流动的阻尼流体，以平缓所述从动旋转轴的运动；其中，所述第一预定方向 与所述第二预定方向相反或相同。 可选地，每个所述密封腔内均设置有至少一个隔离件，以将所述密封腔分隔为不 同的子腔室。 可选地，所述主动旋转轴包括靠近所述从动旋转轴的第一内侧壁以及远离所述从 4 CN 111608521 A 说　明　书 2/6 页 动旋转轴的第一外侧壁； 所述从动旋转轴包括靠近所述主动旋转轴的第二外侧壁以及远离所述主动旋转 轴的第二内侧壁；其中， 所述密封腔为自所述第一内侧壁向靠近所述第一外侧壁的方向凹陷的密封槽，所 述隔离件为自所述第二外侧壁向远离所述第二内侧壁的方向凸出的凸台，所述凸台插置在 对应的所述密封槽内，并且，在沿所述主动旋转轴的径向方向上，所述凸台与所述密封槽之 间具有间隙。 可选地，所述密封槽和所述凸台的数量均为多个，且多个所述密封槽沿所述第一 内侧壁的周向等间距设置，多个所述凸台沿所述第二外侧壁的周向等间距设置。 可选地，每个所述密封槽均对应一个所述凸台。 可选地，所述主动旋转轴包括靠近所述从动旋转轴的第一内侧壁以及远离所述从 动旋转轴的第一外侧壁； 所述从动旋转轴包括靠近所述主动旋转轴的第二外侧壁以及远离所述主动旋转 轴的第二内侧壁；其中， 所述密封腔为自所述第二外侧壁向靠近所述第二内侧壁的方向凹陷的密封槽，所 述隔离件为自所述第一内侧壁向远离所述第一外侧壁的方向凸出的凸台，所述凸台插置在 对应的所述密封槽内，并且，在沿所述主动旋转轴的径向方向上，所述凸台与所述密封槽之 间具有间隙。 可选地，所述凸台设置有连通相邻两个所述子腔室的阻尼孔。 可选地，每个所述密封腔内均还设置有至少一个阻尼件，所述阻尼件能够协同所 述阻尼流体一起作用于所述从动旋转轴，以平缓所述从动旋转轴的运动。 可选地，在所述密封腔为密封槽，隔离件为凸台时，所述阻尼件夹设在所述凸台顶 壁与所述密封槽底壁之间。 可选地，所述旋转机构包括： 旋转气缸； 旋转臂，其第一端与所述旋转气缸的缸体固定连接，其第二端与所述主动旋转轴 固定连接。 本发明的第二方面，提供了一种半导体处理设备，包括腔室、盖板以及驱动所述盖 板旋转以封闭或开启所述腔室的开盖装置，所述开盖装置采用前文记载的所述的开盖装 置。 本发明的开盖装置和半导体处理设备，包括旋转机构；传动机构，包括主动旋转轴 以及套设在所述主动旋转轴内侧并与其可转动连接的从动旋转轴，所述主动旋转轴与所述 旋转机构连接，所述从动旋转轴用于与所述盖板连接；并且，所述主动旋转轴与所述从动旋 转轴之间设置有至少一个密封腔，每个所述密封腔均包括间隔且相互连通的至少两个子腔 室，所述子腔室内均容纳有流体，以在所述主动旋转轴的运动工况沿第一预定方向发生突 然改变时，各所述密封腔内的子腔室之间能够形成沿第二预定方向流动的阻尼流体，以平 缓所述从动旋转轴的运动；其中，所述第一预定方向与所述第二预定方向相反或相同。本发 明的开盖装置，在负载发生突然改变导致主动旋转轴的运动状况发生突然改变时，可以借 助各子腔室内所形成的阻尼流体，可以避免从动旋转轴突然改变运动工况的现象发生，确 5 CN 111608521 A 说　明　书 3/6 页 保从动旋转轴可以平缓运动，以便在行程结束时减少急速停止的现象，防止发生冲击，损坏 部件，提高开盖装置的使用寿命，降低开盖装置的维护成本。 附图说明 附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具 体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中： 图1为本发明第一实施例中腔室、盖板与开盖装置的装配示意图； 图2为本发明第二实施例中腔室、盖板与开盖装置的剖视图； 图3为本发明第三实施例中开盖装置中主动旋转轴及从动旋转轴处的剖视图； 图4为本发明第四实施例中开盖装置中主动旋转轴及从动旋转轴处的剖视图。 附图标记说明 100：开盖装置； 110：旋转机构； 111：旋转气缸； 112：旋转臂； 120：传动机构； 121：主动旋转轴； 121a：第一内侧壁； 121b：第一外侧壁； 122：从动旋转轴； 122a：第二外侧壁； 122b：第二内侧壁； 131：第一密封腔； 131a：第一子腔室； 131b：第二子腔室； 132：第二密封腔； 132a：第三子腔室； 132b：第四子腔室； 133：第三密封腔； 133a：第五子腔室； 133b：第六子腔室； 134：第四密封腔； 134a：第七子腔室； 134b：第八子腔室； 141：第一隔离件； 142：第二隔离件； 143：第三隔离件； 144：第四隔离件； 151：第一阻尼件； 6 CN 111608521 A 说　明　书 4/6 页 152：第二阻尼件； 153：第三阻尼件； 154：第四阻尼件； 200：盖板； 300：腔室。