技术摘要：
本发明实施例提供一种蚀刻机和刻蚀气体导入机构，蚀刻机包括第一电极板，第一电极板包括第一区域、围绕第一区域设置的第二区域，第一电极板设置有气孔、气道，气道包括主干、分支，主干设置有流量控制阀，分支与气孔连接，其中，第一区域的第一主干的流量大于第二区域  全部
背景技术：
现有干法蚀刻机包括上部的刻蚀气体导入机构、以及下部的抽气机构，上部的刻 蚀气体导入机构通过均一出气的气孔喷出气体，仅仅中心和边缘可控，容易在刻蚀基板上 形成刻蚀不均的图案，所述图案边缘处的蚀刻速率高于中心处的蚀刻速率，因此，现有蚀刻 机存在各区域蚀刻速率不相同的技术问题。
技术实现要素：
本发明实施例提供一种刻蚀气体导入机构和一种蚀刻机，可缓解现有蚀刻机存在 各区域蚀刻速率不相同的技术问题。 本发明提供一种刻蚀气体导入机构，包括： 第一电极板，所述第一电极板由中心向边缘依次至少包括第一区域、第二区域，所 述第二区域围绕所述第一区域设置；以及 设置于所述第一电极板下表面的多个气孔；以及 设置在所述第一电极板上方的气道，所述气道包括主干、以及与所述主干连通的 分支，所述主干设置有流量控制阀，所述分支与所述气孔连接； 其中，所述第一区域的所述气孔与第一主干连通，所述第二区域的所述气孔与所 述第二主干连通，所述第一主干设置有第一流量控制阀，所述第二主干设置有第二流量控 制阀，所述第一主干的流量大于所述第二主干的流量。 在本发明实施例提供的刻蚀气体导入机构中，所述第一区域的所述气孔的设置密 度大于所述第二区域的所述气孔的设置密度。 在本发明实施例提供的刻蚀气体导入机构中，在任一区域内，所述气孔均匀设置， 呈阵列排布。 在本发明实施例提供的刻蚀气体导入机构中，所述第一区域、所述第二区域的形 状为矩形或椭圆形。 在本发明实施例提供的刻蚀气体导入机构中，所述第一电极板还包括第三区域， 所述第三区域围绕所述第二区域设置，所述第三区域的所述气孔与第三主干连通，所述第 三主干设置有第三流量控制阀。 在本发明实施例提供的刻蚀气体导入机构中，所述第三流量控制阀的打开程度小 于所述第二流量控制阀的打开程度，所述第三主干的流量小于所述第二主干的流量。 在本发明实施例提供的刻蚀气体导入机构中，在所述第一电极板上，所述气孔均 匀设置在各区域，相邻所述气孔间的间距相等。 在本发明实施例提供的刻蚀气体导入机构中，所述第一电极板的四个角处的气孔 设置的稀疏，所述第一电极板的四个角处的流量小于所述第一主干的流量。 3 CN 111599719 A 说　明　书 2/7 页 本发明提供一种蚀刻机，包括腔体、以及设置在所述腔体上部的刻蚀气体导入机 构、以及设置在所述腔体下部的抽气机构，所述刻蚀气体导入机构包括： 第一电极板，所述第一电极板由中心向边缘依次至少包括第一区域、第二区域，所 述第二区域围绕所述第一区域设置；以及 设置于所述第一电极板下表面的多个气孔；以及 设置在所述第一电极板上方的气道，所述气道包括主干、以及与所述主干连通的 分支，所述主干设置有流量控制阀，所述分支与所述气孔连接； 其中，所述第一区域的所述气孔与第一主干连通，所述第二区域的所述气孔与所 述第二主干连通，所述第一主干设置有第一流量控制阀，所述第二主干设置有第二流量控 制阀，所述第一主干的流量大于所述第二主干的流量。 在本发明实施例提供的蚀刻机中，所述第一电极板还包括第三区域，所述第三区 域围绕所述第二区域设置，所述第三区域的所述气孔与第三主干连通，所述第三主干设置 有第三流量控制阀，所述第三流量控制阀的打开程度小于所述第二流量控制阀的打开程 度，所述第三主干的流量小于所述第二主干的流量。 有益效果：本发明实施例提供的蚀刻机包括刻蚀气体导入机构，所述刻蚀气体导 入机构包括第一电极板、以及设置于所述第一电极板下表面的多个气孔、以及设置在所述 第一电极板上方的气道，所述第一电极板由中心向边缘依次至少包括第一区域、第二区域， 所述第二区域围绕所述第一区域设置，所述气道包括主干、以及与所述主干连通的分支，所 述主干设置有流量控制阀，其中，所述第一区域的第一主干的流量大于所述第二区域的第 二主干的流量；将所述第一电极板分为若干区域，通过不同的所述流量控制阀控制不同所 述主干的流量，从而控制所述主干对应区域的流量，缓解了现有蚀刻机存在各区域蚀刻速 率不相同的技术问题。 附图说明 下面结合附图，通过对本发明的