技术摘要：
本发明涉及电容式触摸屏领域，具体是涉及一种GF2结构触摸屏及其制造方法，包括依次连接的玻璃盖板、第一OCA光学胶层和双面ITO薄膜层，所述双面ITO薄膜层包括第一ITO导电层、中线路基材层和第二ITO导电层，沿所述中线路基材层厚度方向上的两个端面分别设有所述第一ITO导  全部
背景技术：
ITO薄膜(IndiumTinOxidefilm)是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可 见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。它是液晶显示器(LCD)、等离子显示器 (PDP)、电致发光显示器(EL/OLED)、触摸屏(TouchPanel)、太阳能电池以及其他电子仪表的 透明电极最常用的薄膜材料。现有的电容触控屏的制作工艺中，其中一种为G G(Glas Glass)结构，即使用玻璃盖板贴合玻璃功能片，使用该结构的触摸屏就会有两层玻璃材质， 整体效果一定是有厚重感，不适合轻薄化产品；随后出现了GFF(Glass film film)结构，即 使用薄膜功能片替代玻璃的功能片，相对玻璃更好解决轻薄化问题；还有一种将功能片制 作在玻璃盖板上，即OGS(OneGlassSolution)结构，其厚度上有优势，但体验性能和强度性 能很难达到盖板玻璃的性能，没有GFF结构好；同时，有出现单层的方案如GFM(单层多点解 决方案)和GF(单层膜解决方案)的触摸屏结构，都有欠缺；中高端手机比较热衷的触摸屏结 构是ON-cell和IN-cell结构，其不同之处在于将触摸屏的功能片集中制作在显示模组LCM 上，该结构触摸屏厚度是降低了，但生产成本较高，且线性度和精度性能一般，应用受限。从 轻薄化、应用性能及价格成本考虑，GFF触摸屏结构是最具有发展前景的。但目前还不能将 GFF结构的触摸屏做的更加轻薄，限制了GFF结构触摸屏的发展。 中国专利CN201710204756.1公开了一种GFF结构触摸屏的制造方法，先在上线路 ITO薄膜层的上表面形成上层OCA光学胶层，在下线路ITO薄膜层的上表面形成下层OCA光学 胶层，再将上线路ITO薄膜层与下线路ITO薄膜层贴合，最后将上层OCA光学胶层与玻璃基板 下部的油墨层贴合。本发明提供的GFF结构触摸屏的制造方法，能使触摸屏的厚度减小，还 节省了材料，有利于GFF结构触摸屏的轻薄化设计，降低生产成本。 然而该专利中公开的GFF结构触控屏的制造方法中，依然采用的是至少五层结构， 即自上而下依次连接的玻璃盖板、上线路ITO薄膜层、上层OCA光学胶层、下线路ITO薄膜层 和下层OCA光学胶层，但是这同样会导致生产的成本高、生产效率慢、多层组合时对位对不 上等问题，而且五层结构也未必完全解决了中高端屏幕的轻薄化应用问题。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是提供一种GF2结构触摸屏及其制造方法，该技术方 案解决了GFF结构触摸屏无法在中高端屏幕领域轻薄化应用问题，该GF2  结构触摸屏及其 制造方将上下两层的ITO薄膜层优化为一层ITP薄膜层，该GF2  结构触摸屏膜材上可以直接 节省一半。 为解决上述技术问题，本发明提供以下技术方案： 提供一种GF2结构触摸屏，包括依次连接的玻璃盖板、第一OCA光学胶层和双面ITO 薄膜层，所述双面ITO薄膜层包括第一ITO导电层、中线路基材层和第二ITO导电层，沿所述 4 CN 111580703 A 说　明　书 2/8 页 中线路基材层厚度方向上的两个端面分别设有所述第一  ITO导电层和所述第二ITO导电 层，第一ITO导电层其中一端面与中线路基材层连接，中线路基材层的另一端面与第一OCA 光学胶层连接。 作为GF2结构触摸屏的一种优选方案，所述第二ITO导电层其中一端面用于中线路 基材层连接，第二ITO导电层的另一端面连接有第二OCA光学胶层，所述第二OCA光学胶层其 中一端面与第二ITO导电层连接，第二OCA光学胶层的另一端面连接有线路保护层。 作为GF2结构触摸屏的一种优选方案，所述线路保护层为LCD显示屏或者  PET光学 膜。 作为GF2结构触摸屏的一种优选方案，双面ITO薄膜层上设有呈现交叉网格状设置 的ITO线路，所述ITO线路包括X方向ITO线路和Y方向ITO线路，X方向ITO线路包括一体化成 型的X方向电极线和X方向引出线，第一ITO导电层上设有所述X方向交叉线路或所述Y方向 交叉线路，第二ITO导电层上设有Y方向  ITO线路或X方向ITO线路，当第一ITO导电层上设有 X方向ITO线路时，第二  ITO导电层上对应设有Y方向ITO线路，当第一ITO导电层上设有Y方 向ITO线路时，第二ITO导电层上对应设有X方向ITO线路。 X方向ITO线路包括一体化成型的X方向电极线和X方向引出线，Y方向ITO  线路包 括一体化成型的Y方向电极线和Y方向引出线。 还提供一种GF2结构触摸屏的制造方法，包括以下步骤： 在中线路基材层5b其中一端面制作第一ITO导电层，并在第一ITO导电层上形成X 方向ITO线路/Y方向ITO线路； 在第一ITO导电层远离中线路基材层的一端面贴合上第一OCA光学胶层； 在中线路基材层远离第一ITO导电层的一端面制作第二ITO导电层，并在第一ITO 导电层上形成Y方向ITO线路/X方向ITO线路； 将第一OCA光学胶层远离中线路基材层的一端面贴合上玻璃盖板。 作为GF2结构触摸屏的制造方法的一种优选方案，在中线路基材层其中一端面制 作第一ITO导电层，并在第一ITO导电层上形成X方向ITO线路/Y方向ITO  线路，具体包括： 在第一ITO导电层远离中线路基材层的一端面表面形成X方向ITO线路/Y  方向ITO 线路； 利用缩水老化处理使第一ITO导电层上的X方向电极线和X方向引出线，或者Y方向 电极线和Y方向引出线完全结晶； 在X方向ITO线路/Y方向ITO线路上贴合干膜，进行紫外曝光处理，使所述干膜沿导 电线路图案的方向硬化； 将未硬化的所述干膜利用显影液清洗掉，暴露出X方向ITO线路/Y方向ITO  线路； 将暴露出的X方向ITO线路/Y方向ITO线路利用蚀刻液蚀刻掉； 对已经硬化的干膜进行退膜处理，使中线路基材层其中一端面上仅存留形成第一 导电线路的X方向ITO线路/Y方向ITO线路； 在形成所述第一导电线路的第一ITO导电层的边框区域上印刷导电银胶，对导电 银胶进行激光刻蚀以形成第一银胶搭接线路。 作为GF2结构触摸屏的制造方法的一种优选方案，在中线路基材层远离第一  ITO 导电层的一端面制作第二ITO导电层，并在第一ITO导电层上形成Y方向ITO  线路/X方向ITO 5 CN 111580703 A 说　明　书 3/8 页 线路,具体包括： 在第二ITO导电层远离中线路基材层的一端面表面形成Y方向ITO线路/X  方向ITO 线路，并同时在第一ITO导电层形成Y方向ITO线路/X方向ITO线路的一面覆盖上高温保护 膜； 利用缩水老化处理使第二ITO导电层上的Y方向电极线和Y方向引出线，或者X方向 电极线和X方向引出线完全结晶； 在Y方向ITO线路/X方向ITO线路上贴合干膜，进行紫外曝光处理，使所述干膜沿导 电线路图案的方向硬化； 将未硬化的所述干膜利用显影液清洗掉，暴露出Y方向ITO线路/X方向ITO  线路； 将暴露出的Y方向ITO线路/X方向ITO线路利用蚀刻液蚀刻掉； 对已经硬化的干膜进行退膜处理，使中线路基材层另一端面上仅存留形成第二导 电线路的Y方向ITO线路/X方向ITO线路； 在形成所述第二导电线路的第二ITO导电层的边框区域上印刷导电银胶，对导电 银胶进行激光刻蚀以形成第二银胶搭接线路，取下所述高温保护膜。 作为GF2结构触摸屏的制造方法的一种优选方案，将第一OCA光学胶层远离中线路 基材层的一端面贴合上玻璃盖板之后，还包括以下步骤： 在第二ITO导电层远离中线路基材层的一端面贴合上第二OCA光学胶层； 在第二OCA光学胶层远离第二ITO导电层的一端面贴合上线路保护层。 作为GF2结构触摸屏的制造方法的一种优选方案，线路保护层为LCD显示屏或者 PET光学膜。 本发明与现有技术相比具有的有益效果是： 在中线路基材层其中一端面制作第一ITO导电层，并在第一ITO导电层上形成X方 向ITO线路/Y方向ITO线路，在第一ITO导电层远离中线路基材层的一端面贴合上第一OCA光 学胶层，在中线路基材层远离第一ITO导电层的一端面制作第二ITO导电层，并在第一ITO导 电层上形成Y方向ITO线路/X方向ITO线路，将第一OCA光学胶层远离中线路基材层的一端面 贴合上玻璃盖板，形成GF2 结构触摸屏。 与传统的GFF结构触摸屏相比，该GF2结构触摸屏将上下两层的ITO薄膜层优化为 一层ITP薄膜层，即双面ITO薄膜层，双面ITO薄膜层沿高度方向上的上下两面均具备了ITO 导电层，即第一ITO导电层和第二ITO导电层，只要一层ITO薄膜层就可以实现GFF结构触摸 屏中两层ITO薄膜层的功能。GFF结构触摸屏的厚度一般大于等于1mm，该GF2结构触摸屏膜 材上可以直接节省一半，同时将厚度缩减至小于等于0.7mm。并且，该GFF结构的电容触摸屏 的制作方法中无需制作银浆线，X方向电极线、X方向引出线同步Y方向电极线与Y方向引出 线均为ITO材料制作而成，ITO材料是透明的，有利于实现窄边框甚至无边框设计。通过X方 向ITO线路和Y方向ITO线路的设置，在X轴方向、Y轴方向铺设为多个连续交叉的网格形状， 使得Metal-Mesh图案在各个方向上都没有直线，从而在根本上杜绝莫尔条纹的产生，完全 适用于大尺寸和超大尺寸的触控。 附图说明 图1为现有技术中GFF结构触摸屏的层次结构示意图； 6 CN 111580703 A 说　明　书 4/8 页 图2为本发明的结构层次示意图； 图3为现有技术中GFF结构触摸屏的制造方法的流程图一； 图4为现有技术中GFF结构触摸屏的制造方法的流程图二； 图5为现有技术中GFF结构触摸屏的制造方法中S800＂)的具体流程图； 图6为本发明的制造方法的流程图一； 图7为本发明的制造方法中S100)的具体流程图； 图8为本发明的制造方法中S300)的具体流程图一； 图9为本发明的制造方法中S300)的具体流程图二； 图10为本发明的制造方法的流程图二； 图11为本发明的制造方法中S600)的具体流程图。 图中标号为： 1-玻璃盖板； 2-第一OCA光学胶层； 3-第二OCA光学胶层； 4-线路保护层； 5-双面ITO薄膜层；5a-第一ITO导电层；5b-中线路基材层；5c-第二ITO 导电层； 6-上ITO薄膜层；6a-上线路基材层；6b-上ITO导电层； 7-第三OCA光学胶层； 8-下ITO薄膜层；8a-下线路基材层；8b-下ITO导电层。