技术摘要：
本发明提供一种显示装置，其具有：第1区域，其配置有多个像素，并且包含有机绝缘层、第1无机绝缘层和第2无机绝缘层；和第2区域，其包含分别从第1区域连续地形成的有机绝缘层、第1无机绝缘层和第2无机绝缘层，第2区域还包含：设置于有机绝缘层的第1槽部；和以与第2无机  全部
背景技术：
作为在电器和电子设备中使用的显示装置，将使用利用了液晶的光电效应的液晶 显示元件的显示装置或者有机电致发光(有机EL：Organic  Electro-Luminescence)元件作 为显示元件来使用的显示装置正在被开发、商品化。另外，在显示元件上搭载有触摸传感器 的显示装置即触摸面板近年来也迅速普及。触摸面板是智能手机等的便携式信息终端中不 可缺少的部件，随着信息化社会的更加进步，在世界范围的开发正在进步。 作为显示元件使用了有机EL元件的情况下，公知的是能够显示高画质的图像，但 另一方面，有机EL层由于水分而劣化。当使用劣化了的有机EL层来驱动显示元件时，有可能 引起亮度降低或显示不良。因此，为了使水分不混入到有机EL层而设置了密封层。 另外，在有机EL显示装置中，为了划分各图像而设置台阶(有时称为肋)。该台阶存 在相比显示区域在显示区域的外侧的区域中高低差变大的情况。在台阶的高低差较大的情 况下，在显示装置的制造过程中存在密封层上形成的抗蚀剂的膜厚变薄的情况。另外，在将 触摸面板形成在显示区域上时，有时会在密封层之上设置配线层。如上所述抗蚀剂的膜厚 变薄时，存在将密封层蚀刻了的情况。其结果是，有可能使密封层阻挡水分的功能降低。另 一方面，在专利文献1中，作为半导体装置的制造方法，公开了使利用RIE工艺对多晶硅层进 行蚀刻而生成的含硅的副产物堆积在抗蚀剂掩模的上表面和侧面，来防止抗蚀剂掩模的变 形。 现有技术文献 专利文献 专利文献1：日本特开2005-116753号公报。
技术实现要素：
发明要解决的技术问题 本发明的目的之一在于，提供一种能够保护密封层并且可靠性高的显示装置。 用于解决问题的技术手段 本发明的一个实施方式是一种显示装置，其包含：第1区域，其配置有多个像素，并 且包含有机绝缘层、第1无机绝缘层和第2无机绝缘层；和第2区域，其包含分别从所述第1区 域连续地形成的所述有机绝缘层、所述第1无机绝缘层和所述第2无机绝缘层，所述第2区域 还包含：设置于所述有机绝缘层的第1槽部；和以与所述第2无机绝缘层的上表面接触的方 式配置的保护膜，所述第1无机绝缘层和所述第2无机绝缘层覆盖所述第1槽部的侧面、上端 部和底面，所述保护膜与所述第2区域所包含的所述有机绝缘层的上表面的至少一部分、所 述第1槽部的上端部和所述第1槽部的侧面的至少一部分重叠，所述第1槽部的深度相对于 所述第1槽部的底面的宽度之比为1以下。 4 CN 111602466 A 说　明　书 2/12 页 本发明的一个实施方式是一种显示装置的制造方法，其包含：在显示区域的外侧 以具有第1槽部的方式形成有机绝缘层的步骤；以覆盖所述有机绝缘层的上表面以及所述 第1槽部的侧面、上端部和底面的方式形成第1无机绝缘层的步骤；在所述第1无机绝缘层上 形成第2无机绝缘层的步骤；和在所述第2无机绝缘层上以与所述有机绝缘层的上表面的至 少一部分、所述第1槽部的上端部和所述第1槽部的侧面的至少一部分重叠的方式形成保护 膜的步骤，所述第1槽部的深度相对于所述第1槽部的底面的宽度之比为1以下。 附图说明 图1是表示本发明的一个实施方式的显示装置俯视图。 图2是表示本发明的一个实施方式的显示装置的截面图。 图3是表示本发明的一个实施方式的周缘部的截面图。 图4是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图5是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图6是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图7是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图8是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图9是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图10是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图11是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图12是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图13是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图14是说明本发明的一个实施方式的显示装置的制造方法的截面图。 图15是表示本发明的一个实施方式的周缘部的截面图。 图16是表示现有技术的周缘部的截面图。