技术摘要：
本发明涉及分散装置和包括该分散装置的消泡装置，其提供的分散装置包括：分散板，所述分散板配备有倾斜向下延伸的倾斜表面和在所述倾斜表面上形成以将原料引入所述倾斜表面的原料流入喷嘴；以及与所述分散板的所述倾斜表面间隔开的带，以与所述倾斜表面形成间隙，由而  全部
背景技术：
图1是示出常规消泡装置的示意图，其中常规消泡装置(10)包括腔室(11)，分散构 件(12)，原料供给部(20)和真空孔(17)。所述真空孔(17)与真空泵连接。 分散构件(12)包括：环状的基部(13)，配置在所述基部(13)的内径侧的内壁(15)， 以及配置在所述基部(13)的外径侧的外壁(14)，其中原料存储在所述分散构件(12)中。此 时，在所述分散部件(12)的所述基部(13)的中央区域形成有与所述真空孔(17)连接的通孔 (16)。 当将原料从所述原料供给部(20)供给至所述分散部件(12)时，原料容纳在基部 (13)中，将原料保持在所述分散部件(12)中，直到原料的水平面达到分散构件(12)的预定 高度，并且通过淹没外壁(14)将原料施用到所述腔室(11)内。 但是，由于原料滞留在分散部件(12)中，因此存在结垢的问题。 另外，由于现有技术需要安装机械装置，例如具有复杂设计的顶部分配器以均匀 地施用在壁上，以及用于均匀地施用到膜壁上的刮水器，因此存在增加安装成本以及操作 和维护困难的缺点。
技术实现要素：
技术问题 本发明的一个目的是提供一种分散装置，其能够防止结垢并降低安装成本，并且 操作和维护容易。 本发明的另一个目的是提供一种消泡装置，其可以提高消泡效率和残留单体去除 率。 技术方案 为了实现上述目的，本发明提供了一种分散装置，其包括：分散板，所述分散板具 有从所述分散板的中心倾斜向下延伸的倾斜表面，以及具有通过该倾斜表面延伸的原料流 入喷嘴，所述原料流入喷嘴被构造成将原料引入到所述倾斜表面上；以及与所述分散板的 所述倾斜表面间隔开的带，从而在所述带与所述倾斜表面之间形成间隙，所述带被构造成 使得当原料被引入到所述倾斜表面上时，所述原料流过所述间隙。 在本发明中，所述倾斜表面可以具有半圆锥形，并且所述带可以具有相对于所述 倾斜表面向上延伸的坝形并在所述倾斜表面的圆周方向上延伸成环形。 在本发明中，所述分散板还可以具有在中央形成的孔，并具有围绕该孔并向上延 伸的内壁，所述分散板还可具有从所述倾斜表面的下端向下方延伸的侧面，并且所述原料 流入喷嘴可以毗邻所述内壁设置。 3 CN 111601917 A 说　明　书 2/7 页 在本发明中，所述带可以是与所述倾斜表面间隔开的2至5个带之一。 在本发明中，所述倾斜表面与所述带之间的间隙可以具有1至5mm的高度。 在本发明中，所述倾斜表面可以具有相对于水平面的20至40度的倾斜角。 在本发明中，所述原料流入喷嘴可以包括围绕所述倾斜表面的圆周方向以60至 180度的间隔布置的2至6个原料流入喷嘴。 另外，本发明提供一种消泡装置，该消泡装置包括：腔室，其配备有真空孔和排出 孔，所述真空孔连接至真空泵，通过该排出孔排出消泡后的原料；以及设置在所述腔室内的 上述分散装置。 根据本发明的所述消泡装置可以是降膜消泡装置，其中，所述消泡装置可以被构 造为，在原料通过所述分散装置被分散之后，所述原料在沿所述腔室的内壁降落的同时形 成降膜。 在本发明中，所述原料可以是含有聚合物和残留单体的溶液。 根据本发明的所述消泡装置可以被构造为，当原料流过该消泡装置时，同时去除 原料中包含的气泡和残留单体，并且所述消泡装置可以被构造为实现60％以上的残留单体 去除率。 有益效果 根据本发明，通过在分散板上安装坝型环带，其特征在于原料溶液均匀地分布以 提高消泡效率和残留单体去除率。 而且，根据本发明的所述分散装置具有由分散板和环带组成的相对简单的设计， 从而与现有技术相比具有降低安装成本并且易于操作和维护的优点。 此外，由于涂布液在现有技术的储库中停滞，会发生结垢，但是本发明的所述分散 装置可以在没有任何停滞区域的情况下有效地防止结垢。 另外，在现有技术的情况下，必须安装许多入流喷嘴才能够均匀地施用，但是在本 发明的所述分散装置中，即使安装了相对较小的入流喷嘴也可以均匀地施用。 另外，在使用本发明的所述消泡装置的情况下，可以获得与现有技术同等或更好 的消泡效果和残留单体去除率，并且可以降低安装成本和操作成本，从而具有很高的商业 价值。 另外，在使用本发明的所述消泡装置的情况下，可以用简单的结构进行消泡和残 留单体的去除而无需复杂的机械装置，从而具有很高的技术价值。 附图说明 图1是常规消泡装置的示意性构造图。 图2是根据本发明的消泡装置的示意性构造图。 图3是根据本发明的配备有分散板和环带的分散装置的构造图。