技术摘要：
本发明公开了一种TFT‑LCD基板玻璃窑炉环境控制装置及控制方法，所述装置包括连接的铂金通道和窑炉，铂金通道和窑炉位于玻璃窑炉内，玻璃窑炉位于外部大气环境内。铂金通道设置于玻璃窑炉后端，外部大气环境设置于窑炉区域和通道封闭区域外部，各区域之间形成单独空间  全部
背景技术：
】 在TFT基板玻璃生产过程中，热端设备区域环境气流方向变化对整个生产工艺影 响很大，行业生产中，热端设备区域环境气流流向及大小已列为重要的工艺控制参数范畴。 目前，国内外行业生产中，热端设备区域环境气流流向及大小还没有一个完全定性标准。而 且在TFT基板玻璃生产过程中，各成型区域设备均在一个厂房或者单独厂房建设使用，没有 对热端设备进行气流定性，都是依靠工人的技术经验，人工调整热端设备区域环境气流流 向及大小，对热端设备进行散热或者做其他处理，因此对于热端设备区域环境控制不精确， 也容易造成能源的分配不合理，容易影响生产精度和进度。 因此，需要设计一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置或方法，来定性、定量确 定热端设备区域环境的气流流向及大小，为工艺生产缺陷对策提供一个有效、稳定的工艺 环境就尤为重要。 【
技术实现要素：
】 本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环 境控制装置及控制方法，以解决定性、定量控制热端设备区域环境的气流流向及大小的问 题。 为达到上述目的，本发明采用以下技术方案予以实现： 一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置，包括玻璃窑炉，所述玻璃窑炉内固定设 置有铂金通道和窑炉，铂金通道和窑炉连通；玻璃窑炉的前端侧壁上固定设置有第一送风 装置，玻璃窑炉的后端侧壁上固定设置有第一排风装置；铂金通道的前端侧壁上固定设置 有第二送风装置，铂金通道的后端侧壁上固定设置有第二排风装置；所述玻璃窑炉位于外 部大气环境中。 本发明的进一步改进在于： 优选的，第一送风装置出风口的中心线和第一排风装置吸风口的中心线相同；第 二送风装置出风口的中心线和和第二排风装置吸风口的中心线在相同。 优选的，所述玻璃窑炉内的压力比铂金通道区域内的压力小0.1-10Pa。 优选的，所述玻璃窑炉内的压力比外部大气环境的压力大0.1-15Pa。 优选的，铂金通道区域比外部大气环境的压力大5-25Pa。 优选的，所述第一送风装置的送风速度为1-8m/s。 优选的，所述第二送风装置的送风速度为2-10m/s。 优选的，所述玻璃窑炉内的气流流动方向和窑炉(11)内玻璃液流动方向相同；所 述铂金通道内的气流流动方向和铂金通道内的玻璃液流动方向相同。 3 CN 111574027 A 说　明　书 2/4 页 一种基于上述任意一项所述控制装置的控制方法，包括以下步骤： 步骤1，密封玻璃窑炉和铂金通道，连通铂金通道和窑炉； 步骤2，开启第一送风装置、第一排风装置、第二送风装置和第二排风装置。 优选的，还包括以下步骤： 步骤4，通过调整第一送风装置的送风速度，使得玻璃窑炉内的压力比外部大气环 境的压力大0-15Pa；通过调整第二送风装置，使得铂金通道区域比外部大气环境的压力大 5-25Pa；通过调整第一送风装置和第二送风装置，使得玻璃窑炉内的压力比铂金通道区域 内的压力小  0.1-10Pa。 与现有技术相比，本发明具有以下有益效果： 本发明公开了一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制装置，所述装置包括连接的铂 金通道和窑炉，铂金通道和窑炉位于玻璃窑炉内，玻璃窑炉位于外部大气环境内。铂金通道 设置于玻璃窑炉后端，外部大气环境设置于窑炉区域和通道封闭区域外部，各区域之间形 成单独空间压力仓，玻璃窑炉的前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置，通道区域 的前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置。通过将玻璃窑炉、铂金通道区域依次连 接，铂金通道区设置在域窑炉区域后端，并且铂金通道的独立小区域设置在窑炉区域内。各 区域之间形成单独空间压力仓，玻璃窑炉前端和后端分别设有进风装置和排风装置，通道 区域2前端位和后端部分别设有进风装置和排风装置，使窑炉区域和通道区域向外部大气 内渗透，使玻璃窑炉前端和后端面风速及环境压差得到控制，使通道区域前端和后端面风 速及环境压差得到控制，使窑炉区域和通道区域内环境气流均同玻璃液流向一致，到达工 艺生产要求的断面风速、压差及气流组织，避免了外面气压窑炉和通道环境参数的影响，使 得整个热端设备区域环境气流流向和大小符合生产要求，为玻璃生产品质提供了保障。 进一步，送风装置与相对应的排风装置的中心线为同一条直线，使得玻璃窑炉区 域内和铂金通道内的风向和生产线中的玻璃液流向相同。 进一步的，第一送风装置的送风速度限制在一定范围内，使得玻璃窑炉内的压力 符合要求。 进一步的，第二送风装置的送风速度限制在一定范围内，使得玻璃窑炉内的压力 和铂金通道内的压力符合要求。 进一步的，玻璃窑炉内的气流流动方向，铂金通道内的气流流动方向和玻璃液流 动方向相同。 本发明还公开了一种TFT-LCD基板玻璃窑炉环境控制方法，利用环境中已有的控 制装置，对窑炉区域内的气流流向、温度、气压进行有组织调节，使窑炉区域的气流流向与 玻璃液流向相同，降低了玻璃窑炉内环境的稳定时间，保证了玻璃窑炉内能够快速进行熔 融工作，通过本对热端设备区域环境的气流流向、大小进行设置，使得热端设备区域环境气 流流向、压差关系和压差大小有了标准，保证了热端设备区域环境空间气流流向、均匀性控 制更加稳定、精确，从而达到基板玻璃生产工艺环境的稳定，为基板玻璃工艺生产缺陷的降 低起到有效作用。 【附图说明】 图1为本发明的装置结构示意图； 4 CN 111574027 A 说　明　书 3/4 页 其中：1-玻璃窑炉；2-铂金通道；3-外部大气；4-第一送风装置；5-第一排风装置； 6-第二送风装置；7-第二排风排风装置；8-第一压力表；9-第二压力表；10-第三压力表；11- 窑炉。 【