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用于生成电路版图图案的方法、设备和存储介质


技术摘要:
根据本公开的示例实施例,提供了用于生成电路版图图案的方法、设备和计算机可读存储介质。一种生成电路版图图案的方法包括获取与电路版图中的几何图形的尺寸和位置相关的约束条件。该方法还包括从约束条件,确定用于约束单个几何图形的尺寸范围和用于约束相邻几何图形  全部
背景技术:
电路版图(又可以简称为版图)是从设计并模拟优化后的电路所转化成的一系列 几何图形,其包含了集成电路尺寸、各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据。集成电路制 造商根据这些数据来制造掩模。掩模上的图形决定着芯片上器件或连接物理层的尺寸。 现有的版图需要通过人为的绘制,而对于一些测试使用的版图,其对应的测试版 图上的几何图形尺寸与芯片上物理层的尺寸直接相关。为此,测试版图的设计需要按照设 计规则进行。然而,按照设计规则来设计版图,例如设计版图中包括的各种图案,通常需要 投入较大的人力和时间成本。
技术实现要素:
根据本公开的示例实施例,提供了一种用于生成电路版图图案的方案。 在本公开的第一方面中,提供了一种生成电路版图图案的方法。该方法包括获取 与电路版图中的几何图形的尺寸和位置相关的约束条件。该方法还包括从约束条件,确定 用于约束单个几何图形的尺寸范围和用于约束相邻几何图形的间距范围。该方法进一步包 括基于尺寸范围和间距范围,生成样本图案集,样本图案集中的样本图案包括至少一个几 何图形。 在本公开的第二方面中,提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器以及与处 理器耦合的存储器,存储器具有存储于其中的指令,指令在被处理器执行时使设备执行动 作。动作包括获取与电路版图中的几何图形的尺寸和位置相关的约束条件。动作还包括从 约束条件,确定用于约束单个几何图形的尺寸范围和用于约束相邻几何图形的间距范围。 动作进一步包括基于尺寸范围和间距范围,生成样本图案集,样本图案集中的样本图案包 括至少一个几何图形。 在本公开的第三方面中,提供了一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程 序,该程序被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的方法。 应当理解,
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