技术摘要：
本发明提供了蒸镀用掩膜版。蒸镀用掩膜版包括多个预定区域，预定区域包括开口和遮挡区，遮挡区包括第一区、第二区和第三区，第一区具有第一表面和第二表面，第二区具有第三表面和第四表面，第三区具有第五表面和第六表面，第一表面、第三表面和第五表面位于掩膜版的同  全部
背景技术：
蒸镀HTL(空穴传输层)、ETL(电子传输层)、Cathode(阴极)等公共功能层的金属掩 膜版称为通用金属掩膜版(Common  Metal  Mask)，各功能层通过通用金属掩膜版依次蒸镀 沉积到基板上。通用金属掩膜版因自重影响有一定下垂量，常用手机类等大显示屏用的金 属掩膜版下垂量较小，穿戴类(比如手表、手环等小显示屏)小显示屏用的掩膜版的下垂量 较大，图3所示为现有通用金属掩膜版的下垂量趋势。一般而言，7英寸的手机类用的通用金 属掩膜版的cell开口域面积约占整张掩膜版面积78％，而1.3英寸的穿戴类显示屏用的掩 膜版开口面积只占整张掩膜版面积的50％，所以，同样厚度的掩膜版原材情况下，穿戴类显 示屏用的通用金属掩膜版的下垂量会更大。下垂量过大会影响掩膜版的位置精度，增加 Shadow(阴影，是指蒸镀材料通过蒸镀掩膜版蒸镀时，在cell开口边缘产生的膜厚不均匀区 域(膜层厚度为膜层正常厚度的5％～95％))，降低蒸镀的质量。 因此，关于蒸镀用掩膜版的研究有待深入。
技术实现要素：
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的 一个目的在于提出一种蒸镀用掩膜版，该掩膜版在蒸镀时的下垂量较小，提升掩膜版的位 置精度，或可以有效减小阴影。 在本发明的一个方面，本发明提供了一种蒸镀用掩膜版。根据本发明的实施例，该 蒸镀用掩膜版包括多个预定区域，每个所述预定区域包括开口和围绕所述开口的遮挡区， 在远离所述开口的方向上，所述遮挡区包括第一区、第二区和第三区，所述第二区在水平方 向上分别连接所述第一区和所述第三区，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一区具有相 对设置的第一表面和第二表面，所述第二区具有相对设置的第三表面和第四表面，所述第 三区具有相对设置的第五表面和第六表面，所述第一表面、所述第三表面和所述第五表面 位于所述掩膜版的同一侧，且在蒸镀时远离基板设置，所述第二表面、所述第四表面和所述 第六表面位于所述掩膜版的同一侧，且在蒸镀时靠近基板设置，其中，所述第二区的厚度大 于所述第一区的厚度，且大于所述第三区的厚度，所述第一表面与所述第三表面齐平，在所 述掩膜版的厚度方向上，所述第六表面所在的平面位于所述第三表面所在的平面和所述第 四表面所在的平面之间。由此，相对于第二区的厚度，减薄了第三区的厚度，进而减轻了掩 膜版的整体重量，从而可以减轻掩膜版在蒸镀过程中的下垂量，进而提高掩膜版的位置精 度，减小阴影，提高蒸镀品质，更有利于实现显示屏的窄边框的设计。 根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第五表面所在的平面位 于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。 根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一表面所在的平面位 3 CN 111549316 A 说　明　书 2/5 页 于所述第三表面所在的平面和所述第四表面所在的平面之间。 根据本发明的实施例，所述第四表面和所述第六表面之间的垂直间距为所述第二 区厚度的1/5～1/3。 根据本发明的实施例，所述第三表面和所述第五表面之间的垂直间距为所述第二 区厚度的1/10～1/4。 根据本发明的实施例，所述第三表面和所述第一表面之间的垂直间距为所述第二 区厚度的1/10～1/4。 根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第六表面在所述第五表 面上的正投影与所述第五表面完全重叠。 根据本发明的实施例，在所述掩膜版的厚度方向上，所述第一表面在所述第二表 面上的正投影与所述第二表面完全重叠。 根据本发明的实施例，所述第二区的厚度为100～150微米。 根据本发明的实施例，所述第二区的宽度大于等于1mm。 根据本发明的实施例，所述第五表面为粗糙表面。 根据本发明的实施例，所述掩膜版使用时，所述第二表面在基板上的正投影覆盖 所述基板上的第一挡墙、第二挡墙和防裂挡墙，其中，所述基板包括显示区和边框区，在远 离所述显示区的方向上，所述边框区中依次设有所述第一挡墙、所述第二挡墙和所述防裂 挡墙。 附图说明 图1是本发明一个实施例中掩膜版的结构示意图； 图2是图1中沿AA’的截面图； 图3是本发明另一个实施例中掩膜版的结构示意图； 图4是本发明又一个实施例中掩膜版的结构示意图； 图5是本发明又一个实施例中掩膜版与基板对应设置的结构示意图。