技术摘要：
提供一种光转换基板、显示装置及其制造方法。光转换基板包括：第一基板；第一光转换图案，配置在第一基板上，且包括第一波长转换粒子；第二光转换图案，在第一基板上被配置成与第一光转换图案分开，且包括第二波长转换粒子；以及第一散射图案，配置在第一基板上且包括  全部
背景技术：
随着多媒体的发展，显示装置的重要性也显得越来越重要。响应于此，开发出了如 液晶显示装置(Liquid  Crystal  Display  Device，LCD)、有机发光显示装置(Organic  Light  Emitting  diode  Display  Device，OLED)等多种显示装置。 显示装置中，有机发光显示装置包括作为自发光型元件的有机发光元件。有机发 光元件可以包括对置的两个电极以及夹在其中的有机发光层。从两个电极提供的电子和空 穴在发光层再次结合而生成激子，所生成的激子从激发态变为基态，从而可以发射光。 对于这种有机发光显示装置而言，不需要额外的光源，因此不仅可以构成为功耗 低、重量轻且薄型的装置，而且还具有宽的视角、高的亮度和对比度以及快的响应速度等高 品质特性，因而作为下一代显示装置备受瞩目。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种可以对从像素的发光元件发出的光朝 向与其相邻的像素的光转换图案层的混色进行改善的光转换基板(Light  conversion  substrate)以及显示装置。 另外，本发明所要解决的技术问题还在于，提供一种通过半透过掩模(半色调或者 缝隙掩模)可以减少掩模数量以及工序步骤的制造方法。 本发明的技术问题并不限于以上提及的技术问题，本领域技术人员应当可以根据 以下的记载准确地理解未提及的其他技术问题。 用于解决所述技术问题的根据一实施例的光转换基板包括：第一基板，包括第一 区域、第二区域以及第三区域；第一光转换图案，配置在所述第一区域上，且包括第一波长 转换粒子；第二光转换图案，在所述第二区域上被配置成与所述第一光转换图案分开，且包 括第二波长转换粒子；以及第一散射图案，在所述第三区域上被配置成填充所述第一光转 换图案与所述第二光转换图案之间的空间，且包括散射粒子，所述第一散射图案与所述第 一光转换图案的一部分以及所述第二光转换图案的一部分重叠。 所述第一散射图案可以包括：平坦部；第一重叠部，从所述平坦部的一侧延伸且与 所述第二光转换图案重叠；以及第二重叠部，从所述平坦部的另一侧延伸且与所述第一光 转换图案重叠。 所述第一重叠部以及所述第二重叠部的厚度可以比所述平坦部的厚度厚。 所述光转换基板还可以包括：覆盖层，配置在所述第一光转换图案和所述第二光 转换图案之上，且配置在所述第一基板与所述第一散射图案之间。 所述光转换基板还可以包括：第二散射图案，在所述第一区域与所述第二区域之 间被配置成填充所述第一光转换图案与所述第二光转换图案之间的空间，且与所述第一光 5 CN 111584542 A 说　明　书 2/17 页 转换图案的一部分以及所述第二光转换图案的一部分重叠。 所述第一光转换图案、所述第二光转换图案以及所述第一散射图案可以在平面上 呈沿着列方向延伸的带状(stripe)的形状。 所述第一散射图案和所述第二散射图案可以包括相同的散射粒子。 所述第二散射图案的最大厚度可以比所述第一光转换图案的最大厚度厚且比所 述第二光转换图案的最大厚度厚。 所述第一光转换图案和所述第二光转换图案分别还可以包括与所述第一散射图 案中的散射粒子相同的散射粒子。 所述第一波长转换粒子的大小可以比所述第二波长转换粒子的大小大。 所述第一区域、所述第二区域以及所述第三区域可以沿着所述列方向以及与所述 列方向相交叉的行方向包括多个像素，所述光转换基板可以包括：第三散射图案，沿着所述 多个像素的行边界配置在所述第一光转换图案以及所述第二光转换图案之上，且配置在所 述第一重叠部与所述第二散射图案之间以及所述第二重叠部与所述第二散射图案之间。 所述第一重叠部的厚度、所述第二重叠部的厚度、所述第二散射图案的厚度以及 所述第三散射图案的厚度可以相同。 用于解决所述技术问题的根据一实施例的显示装置具备：互相对置的光转换基板 和光提供基板，可以包括第一像素区域、第二像素区域以及第三像素区域，所述光转换基板 包括第一基板，且所述光转换基板包括：第一光转换图案，配置在所述第一像素区域上，且 包括第一波长转换粒子；第二光转换图案，在所述第二像素区域上被配置成与所述第一光 转换图案分开，且包括第二波长转换粒子；以及第一散射图案，在所述第三像素区域上被配 置成填充所述第一光转换图案与所述第二光转换图案之间的空间，且包括散射粒子，所述 光提供基板包括：第一发光区域，与所述第一光转换图案重叠；第二发光区域，与所述第二 光转换图案重叠；以及第三发光区域，与所述第一散射图案重叠，所述第一散射图案与所述 第一光转换图案的一部分以及所述第二光转换图案的一部分重叠。 所述显示装置还可以包括：第二散射图案，在所述第一像素区域与所述第二像素 区域之间被配置成填充所述第一光转换图案与所述第二光转换图案之间的空间，且与所述 第一光转换图案的一部分以及所述第二光转换图案的一部分重叠。 所述第一散射图案和所述第二散射图案可以包括相同的散射粒子。 所述第一发光区域至所述第三发光区域可以发出第一颜色的光，所述第一光转换 图案可以将所述第一颜色的光转换为第二颜色的光并进行输出，所述第二光转换图案可以 将所述第一颜色的光转换为第三颜色的光并进行输出。 所述显示装置还可以包括：填充材料，配置在所述光转换基板与所述光提供基板 之间。 用于解决所述技术问题的根据一实施例的显示装置的制造方法包括：在第一基板 上形成包括第一波长转换粒子的第一光转换图案的步骤；在所述第一基板上形成与所述第 一光转换图案分开配置且包括第二波长转换粒子的第二光转换图案的步骤；以及同时形成 第一基板、第一散射图案以及第二散射图案的步骤，其中，所述第一基板未被所述第一光转 换图案和所述第二光转换图案覆盖而是被露出，所述第一散射图案覆盖所述第一光转换图 案的一部分以及所述第二光转换图案的一部分，所述第二散射图案配置在所述第一光转换 6 CN 111584542 A 说　明　书 3/17 页 图案与所述第二光转换图案之间。 所述显示装置的制造方法还可以包括：在形成所述第一光转换图案之前在所述第 一基板上形成第一覆盖层的步骤；以及在所述第一光转换图案和所述第二光转换图案之上 形成第二覆盖层的步骤。 同时形成所述第一散射图案和所述第二散射图案的步骤可以包括：在所述第一基 板、所述第一光转换图案和所述第二光转换图案之上涂布光致抗蚀剂的步骤；在所述光致 抗蚀剂上配置掩模的步骤，其中，所述掩模包括：遮光部，与所述第一光转换图案和所述第 二光转换图案重叠，透光部，与对未被所述第一光转换图案和所述第二光转换图案覆盖而 露出的所述第一基板进行覆盖的所述第一散射图案重叠，以及半透光部，与对所述第一光 转换图案的一部分进行覆盖的所述第一散射图案和所述第二散射图案重叠；通过所述掩模 曝光所述光致抗蚀剂的步骤；以及使所述光致抗蚀剂显影的步骤。 根据本发明的实施例，可以提供一种可改善从像素的发光元件发出的光向与其相 邻的像素的光转换图案层行进的混色的光转换基板以及显示装置。 根据本发明的一实施例的有机发光显示装置，通过减少掩模数量以及工序步骤可 以提高生产性。 根据实施例的效果并不限于以上例示的内容，本说明书包括更多种效果。 附图说明 图1是示出显示装置的各像素以及第一散射图案和第二散射图案的配置的平面配 置图。 图2是沿着图1的Ⅱ-Ⅱ′线切割的根据一实施例的显示装置的剖视图。 图3是沿着图1的Ⅲ-Ⅲ′线切割的根据一实施例的显示装置的剖视图。 图4是示出通过了第一散射图案以及第二散射图案的光的路径的图。 图5是示出根据一实施例的第一散射图案以及第二散射图案的制造方法的流程 图。 图6以及图7是示出根据一实施例的第一散射图案以及第二散射图案的制造方法 的图。 图8是沿着图1的Ⅱ-Ⅱ′线切割的根据另一实施例的显示装置的剖视图。 图9以及图10是示出根据另一实施例的第一散射图案以及第二散射图案的制造方 法的图。 图11是沿着图1的Ⅱ-Ⅱ′线切割的根据又一实施例的显示装置的剖视图。 图12以及图13是示出根据又一实施例的第一散射图案以及第二散射图案的制造 方法的图。 图14是示出根据另一实施例的显示装置的各像素以及第一散射图案和第二散射 图案的配置的平面配置图。 图15是沿着图14的Ⅳ-Ⅳ′线切割的根据一实施例的显示装置的剖视图。 图16是沿着图14的Ⅴ-Ⅴ′线切割的根据一实施例的显示装置的剖视图。 图17至图18是示出根据一实施例的第一散射图案和第二散射图案的制造方法的 图。 7 CN 111584542 A 说　明　书 4/17 页