技术摘要：
本发明涉及一种提高金属制膜均匀性的平面磁板的制作方法，包括：在基板表面沉积金属膜；测量所述金属膜的均匀性分布；根据所述均匀性分布制作平面磁板。本发明提出的方法，通过预先安装矩形磁板来计算机台制得金属膜的均匀性分布，再通过制作与金属膜均匀性分布互补的  全部
背景技术：
氧化铟锡(Indium  Tin  Oxide)或掺锡氧化铟(Tin  doped  Indium  Oxide)薄膜是 一种N型半导体，简称金属膜。由于金属膜材料具有优异的透明性和导电性，近年来得以迅 速发展，特别是在薄膜晶体管(TFT)、平板液晶显示(LCD)、太阳能电池透明电极以及红外辐 射反射镜涂层、火车飞机用玻璃除霜、建筑物幕墙玻璃等方面获得广泛应用。 金属膜的膜厚均匀性直接影响薄膜器件的功能，例如在制造大尺寸、高对比度显 示器件时，为了保证蚀刻后线路的均匀性从而保证面板显示的色彩均匀性，要求金属膜的 膜厚均匀性要好。 现有技术在采用磁控溅射法提高金属制膜均匀性时，主要通过调整阳极磁块分布 控制电场均匀性来控制金属膜的膜厚均匀性，但由于每个机台自身机构材质影响，磁场分 布无法完全契合，制备出的金属膜的膜厚均匀性小于15％，且膜厚均匀性存在较大波动。
技术实现要素：
为了解决现有技术中存在的上述问题，本发明提供了一种提高金属制膜均匀性的 平面磁板的制作方法。本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现： 本发明实施例提供了一种提高金属制膜均匀性的平面磁板的制作方法，包括： 在基板表面沉积金属膜； 测量所述金属膜的均匀性分布； 根据所述均匀性分布制作平面磁板。 在本发明的一个实施例中，在基板表面沉积金属膜，包括： 制备靶材； 安装所述靶材、基板和矩形磁板； 在所述基板表面沉积形成所述金属膜。 在本发明的一个实施例中，所述矩形磁板的厚度等于所述平面磁板的厚度。 在本发明的一个实施例中，测量所述金属膜的均匀性分布，包括： 形成光斑光源； 利用所述光斑光源以预设入射角照射所述金属膜，获取反射信号； 根据所述反射信号得到所述金属膜的均匀性分布。 在本发明的一个实施例中，形成光斑光源，包括： 选取两束波长不同的光线； 将所述光线扩束成光斑，形成所述光斑光源。 在本发明的一个实施例中，所述预设入射角的范围为10°-30°。 3 CN 111593308 A 说　明　书 2/6 页 在本发明的一个实施例中，根据所述反射信号得到所述金属膜的均匀性分布，包 括： 计算所述反射信号内每一个像素点的厚度； 比较所述反射信号内所有像素点的厚度，得到所述金属膜的均匀性分布。 在本发明的一个实施例中，根据所述均匀性分布制作平面磁板，包括： 根据所述均匀性分布反演互补的均匀性分布； 根据所述互补的均匀性分布铸造得到所述平面磁板。 与现有技术相比，本发明的有益效果： 本发明提出的方法，通过预先安装矩形磁板来计算机台制得金属膜的均匀性分 布，再通过制作与金属膜均匀性分布互补的平面磁板，以形成与机台完全匹配的磁板，通过 本发明提出的方法制成的平面磁板，在与机台配合使用时，制备出的金属膜的膜厚均匀性 的理论值可达到0，且膜厚均匀性稳定，不易出现波动。 附图说明 图1为本发明实施例提供的一种提高金属制膜均匀性的平面磁板的制作方法的流 程示意图。