技术摘要：
本发明提供一种阵列基板及显示面板，阵列基板包括基板、第一金属层、有源材料层、第二金属层、像素电极层以及公共电极层，第一金属层包括开关元件的栅极层、与栅极层连接的扫描线以及屏蔽金属层，屏蔽金属层包括多条屏蔽金属走线，通过两条屏蔽金属走线在至少一相接处  全部
背景技术：
对比度是显示器的重要参数，能够生动形象的展示画面的亮暗态差异，液晶显示 器由于不能自发光，往往需要额外的背光提供亮度，在暗态时液晶受不规则电场或地形影 响会在某些位置背光的亮度会透过液晶层被人眼接收导致暗态亮度增加，影响观看效果。 通常情况下，阵列基板中存在多种不透明的金属走线，金属走线拐角位置往往由 于制程因素无法形成理想的直角，金属走线跟偏光片非垂直或平行导致电场激发逸散电子 使得偏振态改变，造成暗态漏光，如图1所示，现有技术中的屏蔽金属层8＇由第一屏蔽金属 走线81＇和第二屏蔽金属走线82＇形成闭合的圆环，位于像素开口区31＇的四个角落处的拐 角10＇均为内拐角，存在四处金属交叉点位，有四个暗态漏光点，一般的解决办法是用光罩 补偿的方式在内拐角处预先设定补偿图形，然而由于光罩补偿对内拐角相对外拐角效果不 明显，导致暗态漏光较为严重，对比度较差。 综上所述，需要提供一种新的阵列基板及显示面板，来解决上述技术问题。
技术实现要素：
本发明提供的阵列基板及显示面板，解决了现有的阵列基板及显示面板，屏蔽金 属走线采用圆环闭合设计时，由于存在的四处金属交叉点位均为内拐角，而光罩补偿对内 拐角效果不明显，从而导致暗态漏光较严重，对比度较差的技术问题。 为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下： 本发明实施例提供一种阵列基板，包括： 基板； 第一金属层，设置于所述基板上，所述第一金属层包括开关元件的栅极层、与所述 栅极层连接的扫描线以及屏蔽金属层； 有源材料层，设置于所述第一金属层上； 第二金属层，设置于所述有源材料层上，所述第二金属层包括所述开关元件的源 极层、所述开关元件的漏极层以及与所述扫描线交叉设置的数据线，所述扫描线和多条所 述数据线交叉限定出多个像素开口区； 像素电极层，设置于所述像素开口区内，所述像素电极层和所述屏蔽金属层部分 重叠；以及 公共电极层，设置于所述数据线上； 其中，所述屏蔽金属层包括多条屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线的相接处设置 有至少一开口，所述屏蔽金属走线与所述像素开口区相重叠部分在所述开口处具有至少一 个拐角，所述拐角均为相对所述像素电极层设置的外拐角，所述外拐角处设置有凸部。 在本发明实施例提供的阵列基板中，所述屏蔽金属走线包括第一屏蔽金属走线和 4 CN 111580318 A 说　明　书 2/6 页 第二屏蔽金属走线，所述第一屏蔽金属走线与所述数据线平行设置，所述第二屏蔽金属走 线与所述扫描线平行设置，所述第一屏蔽金属走线与所述第二屏蔽金属走线的相接处设置 有至少一开口，使得所述第一屏蔽金属走线和所述第二屏蔽金属走线围成非闭合环状结 构； 其中，所述外拐角位于所述第一屏蔽金属走线和/或所述第二屏蔽金属走线上。 在本发明实施例提供的阵列基板中，所述第一屏蔽金属走线与所述第二屏蔽金属 走线的相接处设置有一开口，所述开口包括第一开口，所述第一开口位于所述第一屏蔽金 属走线上；所述外拐角包括第一外拐角，所述第一外拐角位于所述第一屏蔽金属走线上。 在本发明实施例提供的阵列基板中，在所述数据线的相对两侧均设置有两条对称 分布的所述第一屏蔽金属走线，两条所述第一屏蔽金属走线之间设置有连接走线，以连接 两条所述第一屏蔽金属走线。 在本发明实施例提供的阵列基板中，所述数据线和所述公共电极层在所述基板上 的正投影覆盖所述连接走线在所述基板上的正投影。 在本发明实施例提供的阵列基板中，所述连接走线的材料与所述第一屏蔽金属走 线及所述第二屏蔽金属走线的材料相等。 在本发明实施例提供的阵列基板中，所述第一屏蔽金属走线与所述第二屏蔽金属 走线的相接处设置有一开口，所述开口包括第二开口，所述第二开口位于所述第二屏蔽金 属走线上；所述外拐角包括第二外拐角，所述第二外拐角位于所述第二屏蔽金属走线上。 在本发明实施例提供的阵列基板中，所述凸部在所述基板上的正投影是线段围成 的图形，所述线段围成的图形的边角为直角。 在本发明实施例提供的阵列基板中，所述有源材料层包括依次层叠设置的所述开 关元件的栅极绝缘层、半导体层以及欧姆接触层。 本发明实施例提供一种显示面板，包括上述阵列基板。 本发明的有益效果为：本发明提供的阵列基板及显示面板，通过两条屏蔽金属走 线在至少一相接处设置有至少一开口，使得屏蔽金属走线为圆环非闭合设计，从而屏蔽金 属走线与像素开口区相重叠部分在开口处形成至少一个相对所述像素电极层设置的外拐 角，并在外拐角处设置有凸部，用于将由于制程因素无法形成理想直角的外拐角补偿成直 角，可减少暗态漏光点，改善漏光情况，提高显示画面的对比度。 附图说明 为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术 描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些 实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附 图获得其他的附图。 图1为现有技术中的阵列基板的俯视结构示意图； 图2为本发明实施例提供的阵列基板的截面结构示意图； 图3为本发明实施例提供的第一种阵列基板的俯视结构示意图； 图4为本发明实施例提供的第二种阵列基板的俯视结构示意图； 图5为图4中的第二种阵列基板的简化结构示意图； 5 CN 111580318 A 说　明　书 3/6 页 图6为图5中的第二种阵列基板的局部放大示意图； 图7为本发明实施例提供的第三种阵列基板的俯视简化结构示意图； 图8为图7中的第三种阵列基板的局部放大示意图； 图9为本发明实施例提供的第四种阵列基板的俯视简化结构示意图。 图10为图9中的第四种阵列基板的局部放大示意图。